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半导体含氟废水处理案例|半导体含氟废水处理方法

楼盘历史背景 该半导体材料加工客户在苏北中南部,主耍产出集成化电线集成电路芯片,日释放含氟电镀生活污水约800吨。主要是因为当地的环保性标淮的提升,原始正确治疗基础设施不能能够满足氟化物释放浓硫酸浓度低过5mg/L的新必须,客户的投资1700万元兴建技术含氟电镀生活污水正确治疗系統。 化工废水化学成分及特征 化工废水核心因素于集成块手工制造过程中中的刻蚀工作和刷洗工作,核心污染源物包含: 氟正离子氧化还原电位:300-800mg/L pH值:2- 包含的一些硅酸盐、磷酸 微量分析高价属如铜、镍等 处置工艺设备标准流程 应用"预补救+生物学沉积+厚度补救"组合构成艺: 调节器池:教育均衡发展生活饮用水容量,设计pH一直在线检测 一级通过成绩的反应池:加药氢脱色钙,保持pH至7-8,造成氟化钙结晶 四级沉淀自己出的池:沉淀自己出的转移氟化钙淤泥 二次发生反应池:污泥脱水氯化钙和配位聚氯化铝,进一部避开残渣氟铁离子 两级结晶池:第二次结晶剥离 砂滤系统软件:去掉悬浮物物 可溶性炭过滤:消除有机会物和微量分析天价属 生活污水干化外理程序:板框压滤出现脱水,生活污水干化水分含量率降到60%低于 结果英文效率 体系运动相对稳定后,出液地表水: 氟阳离子密度:2.1-3.8mg/L pH值:6.5-7. SS<5mg/L 巨资属量均高于检测出限 是需求《自动化制造业水严重污渍进行的排放标准决定》(GB39731-2020)耍求,每一年的减轻氟化物进行的排放约180吨。

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