该厂为84英寸晶圆形成线整套搭配的超超纯水系统化，每一天形成含硅焦化废水150吨。焦化废水面虽无血本属，但硅硫含量高易积灰，且电阻器率需达标18MΩ·cm才可循环。本身治理 施工工艺無法充分满足新实施的《微电子化学工业水破坏物废气物的标准》（GB39731-2020）独特废气物标准值。 废液材料优缺点 最主要生态破坏物 ：悬浊液硅（200-300mg/L）、科粒硅（比表面积0.1-1μm） 个性化耍求 ：TOC<10μg/L，硼含铁<5μg/L 饮用水特质 ：低导电率（<50μS/cm）但硅单质形状简化 操作的工艺步骤 全新用"梯级膜脱离+电去阴阳离子"整合加工： 微滤预净化处理 ：1μm陶瓷厂家膜截拦大粉末硅，通量形成80LMH 亚铁离子互换光敏树脂 ：D201大孔聚酯树脂首选性活性炭吸附硅酸分子式 二级考试RO体统 ：第二个段回收分类处理率60%，第二个段主要采用高脱硼膜电气元件 EDI电去阴离子 ：直流电体积密度2A/m²，不间断彻底清除残留阴阳离子 太阳光的紫外线消毒杀菌 ：254nm紫外线，线摄入量40mJ/cm² 科技突出 定制开发专用工具阻硅剂（设计胺类复合材料物），减缓膜影响期限3倍 EDI板块多元化流道设汁，硅快速清理率增加至99.8% 上线硅数据检测仪（侧量超范围0.1-500μg/L）实现目标精准性的把握 作业阶段性成果 经第二方探测： 总硅从280mg/L降到0.05mg/L 硼占比从8μg/L减少为0.3μg/L 体统收集率从原40%提高了至68% 膜拆换周期长增长至5年，年使用价格有效降低35%