某光电器件电源芯片开发厂在晶圆精加工历程中，采用硅烷参与硅外加种植，空气干洗塔行成高有机废气浓度含硅工业废液。工业废液兼具pH震荡大（2-11）、硅硫含量高的性能，老式操作方式方法易发现硅垢堵赛的问题。 电镀废水基本成分及来历 废水处理工艺其主要组成为： 析出性硅酸盐 ：SiO₂浓度值达1000-1500mg/L 硫酸钠/氢被氧化钠 ：洗條塔酸性洗條液使用量 颗粒肥料硅 ：纳米技术级SiO₂氢氧化铁 痕量砷 ：原辅料钙镁离子融入 外理技术生产流程 企业创新分为"多级与+膜过滤器+蒸发器晶体"工艺流程： 3级结合 ：用CaO改善pH至4-5，转为硅酸钙沉积，硅出掉率60%。 特殊采和 ：加Na₂CO₃将pH升降至9，进的一步奠定残余硅，电容串联用镁剂除砷。 反渗透膜系统的 ：0.02μm瓷器膜油烟净化器微米级硅颗粒物，通量稳固在80LMH。 MVR化掉器 ：精提高盐工业废水，沉淀出Na₂SO₄副服务，水中水回用率超90%。 最终能够目的 总硅从1500mg/L下降5mg/L之下 砷水平从0.8mg/L调至0.01mg/L 系统的无水垢运动大于2年 去年回报氢氧化钾钠纳米线约800吨